ArF-лазер ускорит внедрение 45-нм техпроцесса

Фирма Cymer, поставщик источников излучения ультрафиолетовой части спектра (deep-ultraviolet, DUV, длина волны - 193 нм), объявила о готовности аргон-фторового (ArF) лазера нового поколения, который предназначен для иммерсионной литографии с применением 45-нм технологического процесса.

Производитель информирует, что его разработка обладает на 50% улучшенной энергетической стабильностью и имеет на 20% меньшую стоимость владения в сравнении с существующими аналогами.

Такие лазеры позволят излучать импульсы продолжительностью от 5 До 20 нс и частотой До 2000 Гц.

в созданию, получившей название XLR 500i, традиционный каскад усиления мощности заменен рециркуляционным кольцевым, что позволило увеличить стабильность энергии импульса. Увеличенная производительность даст возможность минимизировать число лазерных импульсов во время обработки кремниевой подложки, что обязано уменьшить себестоимость производства.

вспомним, что иммерсионная литография, использующая лазер с длиной волны 193 нм - это предшественница еще более тонкого техпроцесса - EUV-литографии, использующей источники " жесткого " ультрафиолета. До внедрения последней еще, как минимум, 3-4 года, так, что разработка Cymer в ближайшем будущем будет весьма востребована .