ArF-лазер ускорит внедрение 45-нм техпроцесса

Фирма Cymer, поставщик источников излучения ультрафиолетовой части спектра (deep-ultraviolet, DUV, длина волны - 193 нм), объявила о готовности аргон-фторового (ArF) лазера нового поколения, который предназначен для иммерсионной литографии с применением 45-нм технологического процесса.

��роизводитель ��нформирует, ��то ��го ��азработка ��бладает ��а 50% ��лучшенной ��нергетической ��табильностью �� ��меет ��а 20% ��еньшую ��тоимость ��ладения �� ��равнении �� ��уществующими ��налогами.

��акие ��азеры ��озволят ��злучать ��мпульсы ��родолжительностью ��т 5 ��о 20 ��с �� ��астотой ��о 2000 ��ц.

�� ��озданию, ��олучившей ��азвание XLR 500i, ��радиционный ��аскад ��силения ��ощности ��аменен ��ециркуляционным ��ольцевым, ��то ��озволило ��величить ��табильность ��нергии ��мпульса. У��еличенная ��роизводительность ��аст ��озможность ��инимизировать ��исло ��азерных ��мпульсов ��о ��ремя ��бработки ��ремниевой ��одложки, ��то ��бязано ��меньшить ��ебестоимость ��роизводства.

��спомним, ��то ��ммерсионная ��итография, ��спользующая ��азер �� ��линой ��олны 193 ��м - ��то ��редшественница ��ще ��олее ��онкого ��ехпроцесса - EUV-��итографии, ��спользующей ��сточники " ��есткого " ��льтрафиолета. ��о ��недрения ��оследней ��ще, ��ак ��инимум, 3-4 г��да, ��ак, ��то ��азработка Cymer �� ��лижайшем ��удущем ��удет ��есьма ��остребована .