Иммерсионная литография: 32-нм нормы под вопросом

Расположенный на стадии внедрения в массовое производство 65-нм технологический процесс, как известно, в части случаях, Например, Intel, получилось снабдить без применения иммерсионных технологий.

Микропроцессорный гигант уже дал понять, что не станет применять иммерсию и для 45-нм норм, рассматривая технологию в виде кандидата на внедрение для 32-нм норм, если к тому моменту EUV-литография так и не станет готова к внедрению.

принимая во внимание, что за 32-нм среди сторонников разных технологий развернулась настоящая битва, иммерсионной литографии вообще может не найтись места на заводах Intel.

в противоположность от Intel, тайваньский контрактный производитель TSMC сказал о намерении внедрить иммерсионные инструменты для производства по 45-нм нормам. В будущем, TSMC рассматривает возможность применения иммерсионных технологий для норм 32 нм, электронно-лучевой литографии или EUV - для норм 22 нс.

Однако, опасения по вопросу того, что материалы с высоким показателем преломления, нужные для эффективной работы иммерсионных инструментов, работающих с источниками света с длиной волны 193 нм, созданы вовремя не будут, за последний период времени раздаются все более часто и громче. Специалисты утверждают, что современные 193-нм иммерсионные литографические инструменты, использующие дистиллированную воду (показатель преломления - 1, 44), обеспечат производство вплоть до норм 32 нм. ASML, Canon и Nikon уже предлагают 193-нм иммерсионные сканеры, которые можно применять для 45-нм производства. Дальнейшие перспективы иммерсии зависят от разработки жидкостей и материалов оптической системы с более высоким показателем преломления, и несколько компаний, Например, DuPont и JSR, ведут работы в этом направлении, утверждая о достижении величины показателя преломления в 1, 64. Однако, с этими жидкостями Всплавает масса нерешенных до этого времени проблем (Например, токсичность, способность вступать в химические реакции с кремнием, дороговизна и Т. Д.), посему общее настроение в промышленности таково, что промышленники все больше смотрят в сторону под��бных технологий, как электронно-лучевая литография (используемая, в общем-то, уже давно, но не применяющаяся в массовом производстве из-за малой скорости обработки) и уже упоминавшаяся EUV-литография. К примеру, в ASML не верят, что материалы с высоким показателем преломления будут готовы в срок - к 2009 году, и предлагают производителям настраиваться на EUV-литографию .